专利名称：基板处理装置专利类型：实用新型专利发明人：朴在旭,金柄俊申请号：CN201721864776.3申请日：20171227公开号：CN208409547U公开日：20190122
摘要：本实用新型涉及一种基板处理装置，基板处理装置包括研磨垫、监控部以及控制部，研磨垫用于对基板的研磨层进行研磨，监控部对研磨垫的温度信息进行监控，控制部基于研磨垫的温度信息对基板的研磨结束时间进行控制，据此可获得如下有利效果：精确地对基板的研磨厚度进行控制，并且使得研磨效率提高。
申请人：凯斯科技股份有限公司
地址：韩国京畿道安城市
国籍：KR
代理机构：北京冠和权律师事务所
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