专利名称：一种用于紫外光刻机的高分辨率投影光学成像系统专利类型：实用新型专利发明人：季轶群,高艳红申请号：CN201820264700.5申请日：20180223公开号：CN207867215U公开日：20180914
摘要：本实用新型公开了一种用于紫外光刻机的高分辨率投影光学成像系统。它采用光轴旋转对称的同轴透射式光学结构，由前组和后组构成，前组和后组分别位于孔径光栏两侧；前组先将物进行一次缩小成像、再由后组进一步缩小至光刻平面；前组采用库克三片式结构、后组采用改进型的匹兹伐结构，前组、后组不仅可独立地消除自身的大部分几何像差，再由整体联合优化前组、后组，可进一步平衡剩余像差，最终将满足光刻要求的高质量的聚焦光斑成到工作面上。本实用新型采用透射式的非对称光学结构，仅由8片光学透镜组成，结构简单，加工与调试难度大大降低，制造成本低、稳定性好；具有数值孔径大、集光本领强、消色差、畸变小、成像性能优、分辨率高的特点。
申请人：苏州大学
地址：215104 江苏省苏州市吴中区吴中大道1188号
国籍：CN
代理机构：苏州创元专利商标事务所有限公司
代理人：陶海锋
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