专利名称：调整聚焦位置的方法专利类型：发明专利发明人：吴元薰
申请号：CN02127492.4申请日：20020802公开号：CN1472600A公开日：20040204
摘要：一种用于半导体元件的微影制造方法中曝光步骤的聚焦方法，包括：提供一测试光罩，具有一透明基板，所述透明基板表面具有一遮光层，用以露出一相角0度透光区与一相角90度透光区，其中上述相角0度透光区与上述相角90度透光区的尺寸相同；提供一光源，保持与上述测试光罩一距离，透过上述测试光罩在一基底表面曝光出对应上述相角0度透光区的第一影像与对应上述相角90度透光区的第二影像；量测上述第一影像与上述第二影像的尺寸；若上述第一影像与上述第二影像的尺寸不相等，则改变上述光源与上述测试光罩的间距，重复上述步骤，直到上述第一影像尺寸与上述第二影像尺寸相等为止。
申请人：南亚科技股份有限公司
地址：台湾省桃园县
国籍：CN
代理机构：隆天国际知识产权代理有限公司
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