专利名称：一种掩膜板专利类型：实用新型专利发明人：彭川,隆清德
申请号：CN201220457411.X申请日：20120907公开号：CN202735675U公开日：20130213
摘要：本实用新型实施例提供一种掩膜板，涉及显示装置制造领域，可以改善光线的准直角度，抑制或消除光线通过掩膜板图形开口后的衍射曝光范围。包括：光栅层，所述光栅层具有至少一个图形开口区域，还包括：覆盖所述图形开口区域的柱状透镜；所述柱状透镜的一侧为圆拱，另一侧面向所述光栅层，所述圆拱的圆心指向所述光栅层，且其跨度大于等于所述图形开口区域的宽度。本实用新型实施例用于制造掩膜板。
申请人：京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
地址：100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
国籍：CN
代理机构：北京中博世达专利商标代理有限公司
代理人：申健
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