专利名称：一种真空灭弧室专利类型：实用新型专利发明人：吴或龙
申请号：CN201520338624.4申请日：20150523公开号：CN204577319U公开日：20150819
摘要：本实用新型公开了一种真空灭弧室，包括静触头、静端盖、陶瓷外壳、屏蔽罩、动触头和动端盖；所述静触头焊接于静端盖上；所述静端盖焊接于陶瓷外壳的上端；所述屏蔽罩的一端焊接于静端盖上；所述动端盖滑动连接于屏蔽罩内；所述动触头焊接在动端盖上且所述动触头朝向所述屏蔽罩的内部；所述屏蔽罩朝向动端盖的端部上卡接有定位环；所述定位环的内环壁抵接于屏蔽罩且所述定位环的外环壁抵接于陶瓷外壳上。本实用新型适可以使屏蔽罩远离静端盖的一端得到有效定位，便于在安装过程中动触头插入屏蔽罩内。
申请人：浙江森光电气科技有限公司
地址：325608 浙江省温州市乐清市乐清经济开发区纬二十路288号
国籍：CN
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