专利名称：基板及其制造方法、电光装置用基板、电光装置和
电子设备
专利类型：发明专利发明人：仓科久树
申请号：CN200410004691.9申请日：20040311公开号：CN1530701A公开日：20040922
摘要：本发明的特征在于：具有分别形成成膜图案的多个成膜层、分别在上述多个成膜层之间形成的层间膜、在上述层间膜中平坦化的层间膜之下的成膜层上形成的多个层间膜下侧布线图案、为了将上述多个层间膜下侧布线图案与上述平坦化的层间膜的上层的成膜图案之间连接而在上述平坦化的层间膜上形成的多个接触孔、以及在上述多个接触孔的下方的多个位置分别在上述多个层间膜下侧布线图案的下层的1个或1个以上的成膜层上形成的控制上述多个层间膜下侧布线图案的表面的位置的1个或1个以上的虚设图案。
申请人：精工爱普生株式会社
地址：日本东京都
国籍：JP
代理机构：北京市中咨律师事务所
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