专利名称：在溅射处理系统中的等离子体转换的控制专利类型：发明专利发明人：J·C·塞勒司
申请号：CN200480023784.4申请日：20040818公开号：CN1839459A公开日：20060927
摘要：控制用于材料处理的等离子体的方法和装置，其特征是耦合到等离子体容器和电源的谐振电路和开关单元的协作行动。用于获取与等离子体容器中的等离子体的状态相关联的信号的传感器支持开关单元的闭环控制。由该传感器检测到的不期望的等离子体状态能够通过闭合开关单元以分路谐振电路来消除。
申请人：MKS仪器股份有限公司
地址：美国纽约州
国籍：US
代理机构：上海专利商标事务所有限公司
代理人：钱慰民
更多信息请下载全文后查看
因篇幅问题不能全部显示，请点此查看更多更全内容