专利名称：平面研磨机上盘装置专利类型：实用新型专利
发明人：欧阳瑜,李望贤,李平,詹玉元申请号：CN201220235696.2申请日：20120524公开号：CN202572115U公开日：20121205
摘要：本实用新型公开了一种减小研磨盘损耗的平面研磨机上盘装置，它包括机架(3)，机架(3)上安装有竖杆(14)，安装杆(15)安装在竖杆(14)上，一端设有工件架(7)，另一端设有配重块(5)，其特征是所述安装杆(15)套装在竖杆(14)上，靠近配重块(5)一端通过偏心轮(6)与摆动电机(2)连接，本实用新型结构简单，减小了对研磨盘的损耗，降低了生产成本。
申请人：湖南新兴机械制造有限公司
地址：413400 湖南省益阳市桃江县经济开发区牛潭河工业园金牛路
国籍：CN
代理机构：益阳市银城专利事务所
代理人：舒斌
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