专利名称：抗蚀剂下层膜形成用组合物专利类型：发明专利
发明人：田村护,绪方裕斗,岸冈高广申请号：CN201880061324.2申请日：20180919公开号：CN111108441A公开日：20200505
摘要：含有具有下述式(1)所表示的结构单元的树脂的抗蚀剂下层膜形成用组合物提供了耐溶剂性、光学参数、干蚀刻速度、和埋入性这些特性都优异的抗蚀剂下层膜。式(1)中，R表示可以夹着羧基的C1～6烷基、可以具有羟基取代基的C1～6烷基或可以具有C1～4烷硫基取代基的噻二唑基，R表示氢原子或下述式(2)所示基团，式(2)中，R的含义与上述相同，＊表示键合部分。
申请人：日产化学株式会社
地址：日本东京都
国籍：JP
代理机构：北京市中咨律师事务所
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