专利名称：耐溶剂性聚合物膜专利类型：发明专利
发明人：I.斯特鲁兹恩斯卡-皮龙,I.范科勒科姆,L.范马梅勒,J.
洛库菲尔
申请号：CN201380015482.1申请日：20130319公开号：CN104364005A公开日：20150218
摘要：一种用于制备聚合物膜的可辐射固化组合物，其包含a)膜聚合物，其选自聚砜(PSU),聚醚砜(PES),聚醚醚酮(PEEK),聚氯乙烯(PVC),聚丙烯腈(PAN),聚偏氟乙烯(PVDF),聚酰亚胺(PI),聚酰胺(PA)和其共聚物；b)具有至少两个自由基可聚合基团的疏水性单体或低聚物，所述可聚合基团独立地选自丙烯酸酯基,甲基丙烯酸酯基,丙烯酰胺基,甲基丙烯酰胺基,苯乙烯基,乙烯醚基,乙烯酯基,马来酸酯基,富马酸酯基,衣康酸酯基,和马来酰亚胺基；和c)用于膜聚合物和疏水性单体的有机溶剂。还公开了聚合物膜和用于制备该膜的方法。
申请人：爱克发-格法特公司,鲁汶天主教大学
地址：比利时莫策尔
国籍：BE
代理机构：中国专利代理(香港)有限公司
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