专利名称：一种带隙可调的层状杂合物薄膜及其制备方法专利类型：发明专利
发明人：刘韩星,杜湘军,刘克永,甘小燕,郭丽玲,郝华,曹明贺申请号：CN201610169326.6申请日：20160323公开号：CN105742502A公开日：20160706
摘要：本发明公开了一种带隙可调的层状杂合物薄膜及其制备方法。杂合物薄膜材料为层状杂合物。采用以下方式制备而来：将碘苯乙胺、碘化亚锡、碘化铅以0.1≤x≤0.9化学计量比混合，用有机溶剂溶解，震荡搅拌5～60min，得到前驱体溶液；在惰性气氛环境中将前驱体溶液在基板上旋涂镀膜，然后热处理，得到杂合物薄膜。这种杂合物薄膜其晶体结构呈层状，并且当x＜0.7时在空气中有很好的稳定性，杂合物薄膜的带隙可随着x的不同而在1.91eV～2.33eV范围内调整。该类杂合物薄膜不仅由于使用Sn(Ⅱ)部分替代了Pb元素，减少了Pb的使用，有利于环境的保护，而且在光伏器件方面也有潜在的使用前景。
申请人：武汉理工大学
地址：430070 湖北省武汉市洪山区珞狮路122号
国籍：CN
代理机构：湖北武汉永嘉专利代理有限公司
代理人：刘洋
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