专利名称：单晶炉用石墨坩埚专利类型：实用新型专利发明人：周雅清
申请号：CN201120007880.7申请日：20110112公开号：CN201933196U公开日：20110817
摘要：本实用新型公开了一种单晶炉用石墨坩埚，由圆筒状的坩埚本体构成，其特征是：坩埚本体外表面形成有凸起和凹槽。所述凸起和凹槽为间隔均匀的设置在坩埚本体外。凹槽的深度为1—5mm。由于在坩埚的外表面形成有凹槽，因此增加了坩埚本体的外表受热面积。其中通过增加石墨坩埚外表面积来提高传热面积，可使石墨坩埚的外表面积增加一倍，达到加大传热量、快速加热的目的。
申请人：乐山凯亚达光电科技有限公司
地址：614007 四川省乐山市市中区平羌路北段东侧2层
国籍：CN
代理机构：成都中亚专利代理有限公司
代理人：陈亚石
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