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照明光学系统、曝光装置以及元件制造方法[发明专利]

2023-02-20 来源:步旅网
专利内容由知识产权出版社提供

专利名称:照明光学系统、曝光装置以及元件制造方法专利类型:发明专利发明人:田中裕久

申请号:CN200880020867.6申请日:20080912公开号:CN101681123A公开日:20100324

摘要:本发明是有关一种照明光学系统,为利用由光源(1)所供给的照明光而对被照射面(M)进行照明的照明光学系统,包括空间光调变器(S1)及扩散器(4)。空间光调变器(S1)配置在照明光学系统的光路内,并在照明光学系统的光瞳位置或与光瞳位置光学共轭的位置处形成所需的光强度分布。扩散器(4)设置在空间光调变器(S1)的照明光的入射侧,并使入射空间光调变器(S1)的照明光进行扩散。

申请人:株式会社尼康

地址:日本东京

国籍:JP

代理机构:北京中原华和知识产权代理有限责任公司

代理人:寿宁

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