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QLED器件及其制备方法[发明专利]

2024-03-14 来源:步旅网
专利内容由知识产权出版社提供

专利名称:QLED器件及其制备方法专利类型:发明专利发明人:朱佩,曹蔚然

申请号:CN201711351353.6申请日:20171215公开号:CN109935712A公开日:20190625

摘要:本发明提供了一种QLED器件,包括阳极,结合在所述阳极上的量子点发光层,结合在所述量子点发光层上的电子传输层,结合在所述电子传输层上的金属缓冲层,以及设置在所述金属缓冲层上的阴极,其中,所述电子传输层的材料为n型4H‑SiC,所述金属缓冲层的材料选自能与所述n型4H‑SiC形成欧姆接触的金属材料。

申请人:TCL集团股份有限公司

地址:516006 广东省惠州市仲恺高新技术开发区十九号小区

国籍:CN

代理机构:深圳中一专利商标事务所

代理人:黄志云

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