专利名称：有机金属化学气相沉积机台专利类型：发明专利发明人：江俊德,林明宏申请号：CN201010180957.0申请日：20100514公开号：CN102242352A公开日：20111116
摘要：本发明公开了一种有机金属化学气相沉积机台。此有机金属化学气相沉积机台包含反应腔体、旋转座、晶片承载盘、加热器以及喷气头。反应腔体具有开口。旋转座设于反应腔体中。晶片承载盘设于旋转座上，且旋转座可带动晶片承载盘旋转。其中，晶片承载盘包含多个多边形凹陷区，设于晶片承载盘的表面上，这些多边形凹陷区适用以对应装载多个晶片。加热器设于晶片承载盘下方，且位于旋转座内。喷气头则覆盖在反应腔体的开口上，以朝晶片承载盘的表面上施放反应气体。本发明通过在晶片承载盘上设置可紧密排列的多边形凹陷区来装载晶片，可大幅提升晶片承载盘的表面积的利用率，进而可增加晶片承载盘装载的晶片数量。
申请人：佛山市奇明光电有限公司,奇力光电科技股份有限公司
地址：528237 广东省佛山市南海区狮山镇南海经济开发区兴业北路
国籍：CN
代理机构：北京市柳沈律师事务所
代理人：邱军
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