专利名称：一种配置气体离子源的真空离子镀膜机专利类型：发明专利
发明人：董骐,杜建,钟钢,张首忠,罗蓉平申请号：CN200410097124.2申请日：20041210公开号：CN1614080A公开日：20050511
摘要：本发明涉及一种配置气体离子源的真空离子镀膜机，属于真空离子镀膜技术领域。本镀膜机至少包括一个真空室和其中的一套导电工件(转)架和一台气体离子源，以及一台直流或者一台脉冲直流电源；电源通过三组开关分别为导电工件(转)架建立负偏压及驱动该气体离子源；第一、第二组均由两个同时开闭的开关组成，且不得同时开闭；该电源的正极通过第一组的一个开关与气体离子源的阳极相连，该电源的正极同时通过第二组的一个开关与真空室壁相连；该电源的负极同时通过第一组的另个开关和第二组的另个开关与导电工件(转)架相连；导电工件(转)架和真空室壁分别接在第三组开关的两端上。本发明可充分发挥气体离子源和电源的功能，减少设备配置成本。
申请人：北京丹鹏表面技术研究中心
地址：100096 北京市海淀区西三旗东路建筑涂料厂院内
国籍：CN
代理机构：北京清亦华知识产权代理事务所
代理人：廖元秋
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