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具有穿硅通孔与测试电路的半导体结构与其制作方法[发明专利]

2021-10-21 来源:步旅网
专利内容由知识产权出版社提供

专利名称:具有穿硅通孔与测试电路的半导体结构与其制作方

专利类型:发明专利

发明人:陈逸男,徐文吉,叶绍文,刘献文申请号:CN201210092744.1申请日:20120331公开号:CN103367281A公开日:20131023

摘要:本发明公开了一种半导体结构,具有一穿硅通孔以及测试修补电路。其中,穿硅通孔设置于基底中并贯穿基底的有源面以及背面。测试修补电路设置于基底的背面上,与穿硅通孔电性连接,借以提供测试修补功能。根据本发明的另外一个实施方式,本发明另外提供了一种形成半导体结构的方法。

申请人:南亚科技股份有限公司

地址:中国台湾桃园县

国籍:CN

代理机构:深圳新创友知识产权代理有限公司

代理人:江耀纯

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