专利名称：含吲哚基团的二阶非线性光学发色团及其制法和用
途
专利类型：发明专利
发明人：李振,龚伟,秦金贵,李素悦,杨君维,李倩倩申请号：CN200510019396.5申请日：20050906公开号：CN1740171A公开日：20060301
摘要：本发明涉及含吲哚基团的二阶非线性光学发色团，具有以下通式：式中R为各种烃基、芳香基团或其它杂环化合物功能基团。X为氧或者硫原子，A为各种拉电子的受体，如丙二腈、硫代巴比妥酸、3－苯基－异噁唑酮、2－二氰基亚甲基－3－氰基－4，5，5－三甲基－2，5－二氢呋喃等。本发明通过一系列化学反应，可以吲哚、卤代烃、各种拉电子受体、溴代呋喃甲基三苯基膦或2－甲基噻吩及其它一些试剂为原料，制备含吲哚基团的二阶非线性光学发色团。含吲哚基团的二阶非线性光学发色团作为二阶非线性光学材料可以在远程通讯、数据存储、相位共轭等方面得到实际应用。
申请人：武汉大学
地址：430072 湖北省武汉市武昌珞珈山
国籍：CN
代理机构：武汉天力专利事务所
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