专利名称:测量硅基液晶成像芯片光电特性曲线的装置专利类型:实用新型专利发明人:张现立
申请号:CN201120249697.8申请日:20110714公开号:CN202133845U公开日:20120201
摘要:本实用新型涉及一种测量硅基液晶成像芯片光电特性曲线的装置,包括光源、光处理系统、起偏器、光阀、分光棱镜PBS、玻片、定位夹具、微调平台、光探测器、数据采集卡、驱动板、电脑。所述硅基液晶成像芯片垂直于所述光路固定在定位夹具上,硅基液晶成像芯片的反射面朝向玻片,硅基液晶成像芯片连接所述驱动板,驱动板连接电脑,光探测器的光探测端对准所述分光棱镜PBS反射出的S偏振光,光探测器通过电信号线连接所述数据采集卡,数据采集卡连接电脑。本实用新型装置结构简单,成本低廉,操作方便,测量精确度高,为保证硅基液晶成像芯片生产工艺的稳定性以及产品总量率,提供了高精度的测量手段,值得推广应用。
申请人:武汉全真光电科技有限公司
地址:430223 湖北省武汉市东湖开发区大学园路38号
国籍:CN
代理机构:北京市德权律师事务所
代理人:周发军
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