电化学机械沉积的方法和装置

维普资讯 http://www.cqvip.com ２００２年１０月　电镀与涂饰　第２１卷第５期　・６５・　钝化的方法。本发明方法的特征在于用一种后钝化水溶　液处理经磷化处理的金属表面，该溶液含有含量为５ｏ　锡一铟合金电镀液及其制备方法　公开号ＣＮ　１３１４５０１Ａ　５Ｏ０　ｍｇ／Ｌ的镍离子和含量为２００～１５００　ｍｇ／Ｌ的磷酸根离　子。所产生的含有后钝化溶液成分的冲洗水可以使用纳　米过滤或反渗透进行处理，将保留物转移到磷化处理浴　中，从而实现了　的循环。优选后钝化溶液还含有一种磷　化处理促进剂。　申请人　日本麦克德米德株式会社　地址　日本国神奈川县　本发明提供了一种用于取代锡／铅合金的无氰锡／铟合　金电镀液及其制备方法。锡／铟合金电镀液为一种用于锡／　铟合金电镀的弱碱性水溶液，它是通过以下过程制备的，添　加作为金属盐的偏锡（ＩＶ）酸盐、有机磺酸的三价铟盐，再加　入一种螯合剂，用苛性碱将水溶液的ＤＨ值调节至７　１１。　不含铬的防腐剂和防腐蚀方法　公开号　ＣＮ　１３５２　１Ａ　申请人　汉高两舍股份公司　地址德国杜塞尔多夫　一种化学镀镍配方及其应用　公开号ＣＮ１３１１３４９Ａ　本发明涉及可聚合的、用作金属材料有机涂层的组合　物。其含有至少一种与通式（１）对应的烯键式不饱和的可　聚合羧酸的钛、硅和／或锆化合物，其中Ｒ　和／或Ｒ２为Ｈ、　Ｃｌ—ＣＩ２烷基、芳烷基或基团一ＣＯ—Ｏ—Ｙ．Ｒ３：Ｈ或Ｃｌ—Ｃｌ２　烷基，Ｍｅ＝钛、硅或锆离子，Ｘ＝Ｈ、Ｃ。一Ｃ。２烷基、芳基或芳　烷基、烷氧基、芳氧基，Ｙ：Ｈ、Ｃ．一Ｃｌ２烷基或Ｍｅ，１３＝０—４；　至少另外一种每分子含有至少两个烯键式不饱和双键的　烯键式不饱和共聚单体；选择性的另外一种每分子含有一　个烯键式不饱和双键的共聚单体；至少一种自由基聚合引　发剂。本发明的组合物可作为不含铬的有机／有机金属防　腐剂，用于处理包括钢或铝及其合金在内的表面。　申请人地址北京航空航天大学　１０００８３北京市航空航天大学１０３教研室　本发明公开了一种化学镀镍的配方，以解决目前在化　学镀镍技术中存在的镀速偏低、镀液稳定性差、镀液成本　高等问题；本发明的配方包括硫酸镍、次亚磷酸钠、醋酸　钠、有机羧酸、六个碳原子以下的氨基酸、碘化钾或碘酸　钾，ｐＨ值为４．４～５．２；本发明的沉积速度显著提高，可达到　２５　Ｖ￣，／ｈ以上，且镀层的质量明显提高，镀层为耐蚀性强的　非晶态，镀液稳定性好，稳定性大于７个周期，本发明的镀　液可广泛应用于化学镀的工艺中。　电化学机械沉积的方法和装置　防蚀金属粉末涂料　公开号ＣＮ　１３５２２２１Ａ　公开号ＣＮ　１３２９６８１Ａ　申请人地址纳托尔公司　美国加利福尼亚　申请人一柏林股份有限公司　地址　台湾省高雄市小港区大业南路４３号　种防蚀金属粉末涂料，主要是一种含铝的无机锌粉　本发明把电解液里的导体材料沉积到晶片的预定区　涂料．该涂料是由在该涂料的干膜中７０％一９５％（质量分　数）的主刺与５％一３０％（质量分数）的粘合剂均匀混合而　成；其中主剂主要是由铝粉及锌粉混合组成的金属粉末，　铝粉占该金属粉末的１％一２５％（质量分数）即整体干膜　的７％一２４％（质量分数）。　域上。作出本申请所用的步骤包括当该晶片被置于阴极　和阳极之间时，应用在晶片表面上的电解液，把导体材料　镀到晶片的预定区域上，并且在电镀导体材料时，通过对　其它区域进行机构抛光，阻止导体材料积累到不是预定区　域的区域上。　一种有机污水处理方法　公开号ＣＮ　１３３００４５Ａ　不含六价铬的水系金属表面处理剂及其　所处理的表面处理金属板　公开号ＣＮ　１３４０６３５Ａ　申请人范志刚　地址　３３１７２４江西省进贤县长垦工业区金山糖醇公司　申请人　日本巴卡莱近估股份有限公司　地址日本国东京都　本发明是一种有机污水处理方法，其特点是将污水通　本发明是一种含有（Ａ）三价铬化合物、（Ｂ）硝酸金属　盐、（ｃ）水分散性二氧化硅及水．且其中成分（Ａ）中金属与　成分（Ｂ）中金属的质量比（Ａ）／（Ｂ）在５／９５～９５／５范围内的　不含六价铬的水系金属表面处理剂。相对于成分（Ａ）、成　过一个具有由多棱形的石块粘接而成的“克污球”的集合　槽，并同时向集合槽供风．使污水得到处理。本发明的方　法简单，污泥在集合槽内分解，不需要进行污泥处理，装置　成本和维护成本比较低．而且没有二次污染。　分（Ｂ）及成分（Ｃ）固形成分合计量，成分（Ｃ）的固形成分的　比例在ｌ０％～９ｏ％（质量分数）之间为理想的。以含有做　为追加成分的丙烯树脂、尿烷树脂、环氧树脂等的水系树　脂、磷酸盐化合物、润滑剂是为理想状态．以前述的水系金　属表面处理剂．在金属表面的至少一面进行涂布，再使其　干燥．形成一干燥皮膜霞　０，１～５　ｇ／ｍ２的皮膜。　化学气相沉积室钝化方法　公开号地址日本东京　ＣＮ　１３１９１４６Ａ　申请人　东京电子有限公司　说明了一种方法．用该方法可在湿式清洗或就地清洗　后或在每次进行沉积后有效地调理、钝化用来沉积等离子